Главная » 2009»Февраль»22 » Реактивное катодное распыление - Методы получения тонких пленок
Реактивное катодное распыление - Методы получения тонких пленок
19:41
Реактивное катодное распыление - Методы получения тонких пленок
В отличие от физического реактивное катодной распыления происходит в тлеющем разряде смеси инертного и активного газов. Частицы распыленной катода химически взаимодействуют с активным газом или образуют с ним твердые соединение, и новое вещество попадает в основу. Чтобы процесс образования вещества пленки, которая наносится, не проходил на катоде, что очень усложняет горения разряда, применяют смеси аргона с содержанием активных газов не более 10%. Для получения пленок оксидов распыления проводят в плазме аргон-кислород, нитрид - в плазме аргон-азот, карбидов в плазме аргон-угарный газ или аргон-метан. При вводе в камеру различных активных газов, получают пленки различных соединений, которые практически невозможно получить при термовакуумным напылением. Реактивное катодной распыления позволяет не только получить различные по составу пленки, но и контролируемой управлять их свойства, например удельное сопротивление резистивных пленок. Реактивное распыления широко используется для формирования високоомних резисторов. Главными техническими трудностями при Реактивному катодной распылении является точное дозирование активного газа, подаваемого в вакуумную камеру.
Категория: Наука |
Добавил: glory
| Рейтинг: 0.0/0 |
