Главная » 2009»Февраль»22 » Высокочастотные распыления – Методы получения тонких пленок
Высокочастотные распыления – Методы получения тонких пленок
19:50
Высокочастотные распыления – Методы получения тонких пленок
При рассмотрении процесса получения пленок катодной распылением подразумевается, что катод является проводником и находится под постоянным потенциалом и заряд бомбардируя иону нейтрализуется электронной из внешнего круга. В случае когда катод выполнен из диэлектрической или малопроводного материала, проходит накопление положительного заряда, ионы не будут вытягиваться из плазмы, а потому распыления прекратится. Для продолжения процесса распыления необходимо изымать накопленный положительный заряд ионов. На практике это обеспечивают подачей на катод переменного высокочастотного потенциала. Тогда при отрицательном потенциале на катоде проходить распыления, при положительном - нейтрализация накопленного заряда. Процессы накопления и нейтрализации заряда периодически повторяются с частотой 13,56 МГц, что допускается при использовании в промышленном оборудовании. Высокочастотный разряд стабилен при давлениях в камере более низких, чем при диодной распылении, поэтому при получении диэлектрических пленок использования сложных трех-или чотирьохелектродних вакуумных камер нецелесообразно. Мишени распыляются попеременно на изолированные основы.
Категория: Наука |
Добавил: glory
| Рейтинг: 2.0/1 |
